ASML缺席进博会：内部会议撞期，SMEE展SSC800等新一代光刻机模型

荷兰光刻机制造商ASML今年没有出现在进博会上。从2020年起，这家公司已连续六次参展。观察者网了解到，ASML对缺席给出的解释是，与公司内部全球会议的时间撞了。

观察者网在现场看到，国产光刻装备制造商上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）展出了新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800的模型，对外呈现我国前道光刻装备自主研发的阶段性成果。这批模型采用透明剖视设计，设备内部的光学光路、机电系统布局一眼就能看清。

此前多年，

上海微电子介绍，该平台同时适配I-line和KrF两类技术路线；整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、自动物料传输系统以及对准调平传感系统，全部实现全链条自主可控。光刻机在芯片制造前道工艺中扮演关键角色，掩模版上的电路图案由光学系统投影到涂有光刻胶的晶圆上，再经显影、刻蚀等工序，一层层形成芯片内部的电路结构。

两类技术路线各有分工：I-line用365纳米紫外光源，KrF用248纳米准分子激光光源。据上海微电子官网介绍，SSC800系列KrF扫描投影光刻机针对110纳米及以上制程需求，主要服务高性能计算、高密度存储、微处理器等领域；SSB800系列I-line光刻机则面向280纳米及以上工艺，重点用在功率半导体、模拟集成电路和

在前道干式光刻机方面，上海微电子透露，关键零部件的国产化比例已经突破90%；这些设备中有多台长期服务于国内头部逻辑芯片和存储芯片产线，产线流片累计超过1000万片，设备有效运行率在92%以上。

上海微电子成立于2002年，是国内前道光刻装备制造的重要企业。公司此次还披露，自己是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商。除前道光刻设备外，其业务还覆盖先进封装、平板显示等领域，先进封装光刻机也是重要产品之一。