上海微电子SSC800、SSB800光刻机模型进博会亮相：核心部件全自主
11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上，一系列重磅科技亮相。上海微电子装备集团（简称“SMEE”）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。上证报记者 宋薇萍 摄SMEE表示，本次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈
11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海办。一连串科技新品在展会上露脸。
上海微电子装备集团（SMEE）把自家研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800带到了中国馆，这次展出的是模型。国内前道光刻装备自主化走到哪一步，由此可看出一二。
据SMEE介绍，模型做成透明剖视的样子，整机光学光路怎么走、内部机电系统如何连接，观众一眼就能看清。这套平台是国产标准化的前道光刻装备架构，I-line、KrF两条主流技术路线都能适配。高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统，这些整机核心部件全部实现了全链条自主可控，工艺适配能力和产线运行的可靠性也都站得住。
国产前道干式光刻机的成像性能，眼下已经和国际同类领先产品处在一个水平线上，套刻精度、生产效率也在紧紧咬住国际标杆。在售机型里，SSC800系列对应KrF，SSB800系列对应I-line，都基于自研双工件台平台，配的是国产自主大NA物镜，关键曝光成像指标直接对标国际标杆。SSC800的整体性能已经排进行业第一梯队。
技术底座全栈自主可控，关键零部件国产化率超过90%，定型与规模化量产都已完成，国内空白就此补上。多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线上长期稳定运转，累计支撑产线流片超过千万片，设备有效运行率在92%以上。
SMEE于2002年成立，是国内唯一能稳定量产交付前道干式光刻机的制造商，也是我国前道光刻装备自主供给体系里的核心支撑主体，业务涵盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售和全流程技术服务。公司盯着产业技术前沿不放，一边自主创新往深里做，一边和产业链协同联动，与上下游供应链、行业伙伴深度合作，共同搭建开放良性的半导体产业生态。自身稳健运营的同时，它也在持续给我国半导体产业的高质量升级提供核心装备支撑。
